产品中心

服务创造价值、存在造就未来

公司经营的主要材料有:光刻胶、显影剂、去胶液、OC胶、BM胶、 PGMEA、IPA等产品。集成电路半导体领域是我们主要市场应用领域,相应的产品主要有G&I线、CA、Thickfilm、PSPI等光刻材料

主要制品

光刻胶

安光企业集团是知名光刻胶行业龙头公司,提供光刻胶多款产品.凭借丰富的过往经验,提供技术解决方案为光刻工艺制程保驾护航.

显影液

显影是光刻工艺中的核心步骤,在曝光之后进行。其作用是通过显影液选择性溶解光刻胶的可溶解区域,将曝光后形成的潜在图形转化为可见的精细电路图案,并转移到硅片表面。

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